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Audiovisual

Tecné, de Duoc UC: procesos creativos de la industria audiovisual

Ignacio Valenzuela, Lucrecia Martel, Carl Sprague, Santiago Cabrera y Carolina Siraquyan expondrán sus propias experiencias en esta industria.

Carolina Siraqyan, montajista de El Agente Topo será una de las invitadas al encuentro.

En su décimo tercera edición, el encuentro Tecné de la Escuela de Comunicación de Duoc UC celebra los 25 años de las carreras de esa área en este instituto. Se programaron entre el lunes 24 y el viernes 28 de mayo entrevistas y charlas con destacados agentes de la industria nacional.

El evento será virtual y gratuito, con inscripciones en Tecne-duoc.cl. Entre los convocados se cuentan el escritor chileno de reconocimiento internacional Ignacio “Chascas” Valenzuela; Lucrecia Martel, directora de uno de los films argentinos más aclamados a nivel mundial La Ciénaga; Carolina Siraqyan, montajista del documental finalista a los Premios Oscar El Agente Topo; Carl Sprague, destacado director de arte para películas como Gran Hotel Budapest y La La Land, y el actor Santiago Cabrera, reconocido por su participación en series como Héroes y Big Little Lies y películas como Ema y Amadrinadas.

Los asistentes a TECNÉ podrán conocer desde primera fuente los procesos que han llevado, por ejemplo, a, “Chascas” Valenzuela, a ocupar el primer lugar en los más reproducidos de Netflix; la nominación a los Oscar en 35 oportunidades de Carl Sprague y la reciente participación como finalista de El Agente Topo en el mismo certamen.

“Tecné 2021 representa una oportunidad única para que estudiantes y profesionales del medio audiovisual se encuentren en un programa no solo de total vigencia, en que la industria audiovisual latinoamericana ha demostrado estar a la altura de grandes logros, sino que como factor movilizador para superar las dificultades de la actual pandemia”, explica Jaime Delannoy, subdirector de la Escuela de Comunicación en Duoc UC.

El evento será transmitido on-line, programación en Tecne-duoc.cl.

Información: Duoc UC.

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